現(xian)有加熱電(dian)源存在的問題：

    盡管(guan)我國晶(jing)體生長(zhang)設備(bei)的自動化(hua)程度有(you)了很大(da)提高(gao)，但是在常規的直(zhi)拉法溫度控制環節的(de)設計上還(hai)存在以下問題：

    (1)加熱(re)電源的智(zhi)能化程度不(bu)高。純模(mo)拟電路構成，單閉環(huan)控(kong)制，自動(dong)化程度(du)偏低，功(gong)率的(de)調節(jie)常滞(zhi)後于(yu)系統(tong)對溫(wen)度的(de)實際要求(qiu)。

    (2)溫度需要手動調節。該設備在運行過程當中(zhong)不能完(wan)全做到(dao)無人值(zhi)守，對于(yu)引徑、放肩及熔(rong)料過程的溫度(du)控制還(hai)需要工(gong)作人員通(tong)過電(dian)源櫃的旋鈕手(shou)動調(diao)節輸(shu)出值，等徑生(sheng)長過程(cheng)的實際控(kong)溫精(jing)度與理論值也(ye)有差距，參數的(de)設置、調節(jie)和記(ji)錄均需要(yao)值守(shou)人員(yuan)參與(yu)完成(cheng)。

    單晶爐改進方(fang)案：

    裝置采用模(mo)塊化設計，微機(ji)控制(zhi)，内置(zhi)自适(shi)應能力較(jiao)強的模糊(hu)pid控制算法，具有控(kong)制參數(shu)自動(dong)調(diao)節、顯示(shi)，可通過按(an)鍵(jian)設定初(chu)值，系統異(yi)常可自動(dong)聲光(guang)告警(jing)等(deng)新功能(neng)，即從整(zheng)體上提(ti)高溫(wen)控系統(tong)的(de)智能化程(cheng)度和(he)控制精度(du)，加快(kuai)參數調節的響應速度，使整個(ge)生産過程中爐(lu)溫的變(bian)化能快(kuai)速平滑地跟随工藝(yi)曲線變化(hua)，裝置(zhi)通用性強(qiang)，操作上更(geng)加簡(jian)單、可靠。

    單晶爐(lu) 主要技術(shu)指标(biao)：

    單晶爐加(jia)熱電源是(shi)一種大功(gong)率直流電源，要(yao)求輸(shu)出功率lookw，輸(shu)出電壓爲(wei)0-5v可調(diao)，輸出(chu)電流爲0-3000a；其輸出的能量可(ke)直接(jie)爲單晶(jing)爐(lu)内的石墨(mo)加熱(re)器供(gong)熱，加熱溫(wen)度範(fan)圍爲o～2000℃，控溫(wen)精度(du)要求達到(dao)±5℃；各種信号可自動檢測、顯(xian)示，參數的(de)修改(gai)和設定可通過按鍵(jian)進(jin)行，以此來滿(man)足單(dan)晶矽在生長階段對溫度(du)的嚴格要求。